MLCC行業砂磨機(ji)**應用集中在5個(ge)關鍵工藝點，覆蓋鈦酸鋇(bei)介電粉體、銀/銅(tong)/鎳(nie)等內電極漿料，，市場(chang)空間隨MLCC小型化、高容化持續擴張。RUCCA砂磨機(ji)主(zhu)要解決的(de)**是(shi)解團聚+勻粒(li)徑(jing)+穩定分散(san)，*終保障(zhang)MLCC導電可靠、超(chao)薄化、高良率。

一、RUCCA砂磨機在MLCC的5大(da)應用點(dian)

1. 鈦酸鋇基介電粉體研磨（**）：固相法/水熱法合成后需納米級細化，控制D50≤100nm、粒徑分布跨度<1.5，保障介電層均勻與介電常數穩定。

2. 銀粉內電極漿料分散(san)：適配超薄電極（≤1μm），確保(bao)銀粉分散(san)均勻(yun)、無團聚，提升印(yin)刷精度(du)與導電性，減少(shao)開路風險。

3. 鎳粉(fen)內電極(ji)漿料制備：高容MLCC常用，砂磨機(ji)分散(san)鎳粉(fen)并與鈦酸鋇復(fu)合，控(kong)制粒(li)徑與分散(san)性(xing)，避免疊層開裂、提升容量一致性(xing)。

4. 銅粉電(dian)(dian)極(ji)/粘結相(xiang)研(yan)磨：用于中(zhong)低(di)壓MLCC，需低(di)氧環境研(yan)磨，防止(zhi)氧化(hua)，保證電(dian)(dian)極(ji)導電(dian)(dian)性與可靠性。

5. 復合粉體/添加劑(ji)混合：如鈦酸鋇與稀(xi)土摻雜(za)劑(ji)、燒結助劑(ji)（MgO/CaO）的均(jun)勻分(fen)散，提升(sheng)燒結致密(mi)性(xing)與介電穩定性(xing)。

金(jin)屬粉(fen)（銀(yin)/鎳/銅）天生易團聚，普通(tong)攪拌(ban)散(san)(san)不(bu)開，RUCCA砂磨(mo)機(ji)強(qiang)剪切力是(shi)**能高效解(jie)聚的(de)設(she)備，MLCC電(dian)極(ji)越做(zuo)越薄（現在(zai)≤1μm），對(dui)粉(fen)體(ti)粒徑要(yao)求(qiu)極(ji)高，RUCCA砂磨(mo)機(ji)能**磨(mo)到納米級，其他設(she)備達不(bu)到精度，電(dian)極(ji)漿料分散(san)(san)不(bu)均(jun)會(hui)導(dao)致MLCC開路、短路，砂磨(mo)機(ji)能保證粉(fen)體(ti)均(jun)勻懸(xuan)浮，是(shi)后續(xu)印刷、燒結合(he)格(ge)的(de)前提(ti)。

二、**痛點與對(dui)應解決方案

1.針對(dui)鈦酸鋇介電(dian)粉體(ti)研磨 ：

**痛點是：納米顆粒團聚、粒徑分布寬、溫(wen)升致晶型轉變

對應解決方案： 0.1-0.3mm Y-TZP氧化鋯珠；外循環冷卻控溫；在線激光粒度閉環控制 D50≤100nm，跨度<1.2；控溫<40℃；雜質含量≤50ppm；節能10-20% 。

2.銀粉內(nei)電(dian)極漿料分散 ：

**痛點(dian)是：團聚影響(xiang)印刷(shua)精度、導電(dian)性不均

對應解決方案：適配30-50%固含量；磷酸酯類分散劑配伍工藝 粒徑分布跨度<1.5；印刷層厚度≤1μm；解聚率>90%

3. 鎳粉(fen)內電(dian)極漿料制(zhi)備(bei)：

**痛點是：氧化變質(zhi)、疊層開裂(lie)、容(rong)量(liang)一致性差

對應(ying)解決(jue)方案：氮氣保護(hu)封閉研(yan)磨系統；碳化鎢(wu)棒銷+氧化鋯腔(qiang)體；PID溫(wen)控系統 氧含量≤0.5%；D50波動±5nm；燒結致密度提升(sheng)8%

4. 銅粉電極研磨：**痛點是：易氧化(hua)、金屬(shu)雜質(zhi)引(yin)入

對應解決方案：低氧環境研磨（氧含量<1%）；陶瓷疊片式分離器；316L不銹鋼全封閉流道 氧化率≤0.3%；Fe/Ni雜質≤30ppm；粒徑均勻性≥92%

5. 復合粉體/添加劑混合：

**痛(tong)點是：摻雜不(bu)均、燒結致密性(xing)差(cha)

對(dui)應解決(jue)方案：雙動力(li)進料+湍流分散結(jie)構(gou)；適配0.3-0.8mm研磨珠；模塊(kuai)化腔體(ti)設(she)計 混合(he)均勻度≥95%；燒結(jie)收(shou)縮(suo)率波動±0.5%；產能50-2000L/h

RUCCA砂(sha)磨機在電(dian)極材料里的(de)3個**作用

1. 解(jie)聚：打破銀/鎳/銅粉的(de)軟/硬團(tuan)(tuan)聚，把(ba)團(tuan)(tuan)聚體拆成單(dan)顆粒，避(bi)免漿料里(li)有大(da)顆粒堵網、印(yin)刷露底

2. 勻(yun)粒徑(jing)：將粉體(ti)磨至目標粒徑(jing)并控制分布窄，保證電(dian)極厚度均勻(yun)，不會局(ju)部過厚/過薄導致燒結開裂

3. 穩定分散：讓(rang)金屬粉均勻分散在(zai)有(you)機載(zai)體(ti)中，形成穩定漿(jiang)料，防(fang)止儲存分層，保障(zhang)批量生(sheng)產一致性

三(san)、針對儒佳的設備選用(yong)機型

儒佳的(de)主要針(zhen)對新(xin)材料的(de)機型N系(xi)(xi)列，UM系(xi)(xi)列,DUM系(xi)(xi)列：

? N系列（臥式納米砂磨機）：鈦酸鋇(bei)粉(fen)(fen)體量產主力，適(shi)(shi)配銀粉(fen)(fen)漿料規模化生產，流量大(da)(da)、控溫強，適(shi)(shi)配0.3-1.0mm研(yan)磨珠，D90≤300nm、*大(da)(da)線速度(du)12M/s，適(shi)(shi)合(he)大(da)(da)產能線。

? UM系列（立式無篩(shai)網納米砂(sha)磨機）：研發/中試**，適配鎳/銅(tong)粉防(fang)氧化小批(pi)量研磨；可(ke)投0.03-0.3mm超(chao)微珠，無網離心出料，D90≤100nm，適合小批(pi)量、多品種(zhong)切換。

? DUM系列（立式雙動力納米砂磨機）：超薄電極漿料量產，強化UM的能量密度與穩定性；碳化鎢/陶瓷耐磨組件，適配0.05mm以下微珠，氧含量<0.5%，適配高固含（40-60%）鎳/